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當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 實(shí)驗(yàn)室儀器及設(shè)備 > 加熱磁力攪拌器 > Heidolph的磁力攪拌器
簡要描述：Heidolph的磁力攪拌器? 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤? 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈??800W的加熱能力，快速加熱?????? 轉(zhuǎn)速Z大可達(dá)到14，000rpm? 強(qiáng)大磁力，輕松驅(qū)動攪拌子? Z多可攪拌20L水? 免維護(hù)的發(fā)動機(jī)，啟動順暢? 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃? 高效率驅(qū)動，低效率消耗? 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身，持久耐用
產(chǎn)品型號： 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2023-03-16訪 問 量：1618詳細(xì)介紹
產(chǎn)品信息：
? 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
? 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈
? 800W的加熱能力，快速加熱
? 轉(zhuǎn)速zui大可達(dá)到14，000rpm
? 強(qiáng)大磁力，輕松驅(qū)動攪拌子
? zui多可攪拌20L水
? 免維護(hù)的發(fā)動機(jī)，啟動順暢
? 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃
? 高效率驅(qū)動，低效率消耗
? 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身，持久耐用
加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
高安全性能
? 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
?加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
?優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
?優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
?加熱盤直徑: 145 mm
?通過兩個獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
?預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度差時
?獨(dú)立線路開關(guān)自動停止加熱
?*避免錯誤的溫度設(shè)定
?速度范圍: 30 - 1,400 rpm
?出眾的溫度控制精度: ±1 %
?數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實(shí)際值）
?加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C
?介質(zhì)溫度范圍:zui高 250
?精確溫度設(shè)定：±1K
?當(dāng)停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量
?照明開關(guān)
?三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
?電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動機(jī)
?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）
加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec[]
適用于更高實(shí)驗(yàn)要求
MR Hei-Tec
?800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
?數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度
?加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
?介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C
?速度范圍: 100 - 1,400 rpm
?速度控制精度:±2 %
?通過兩個獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
?當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時，獨(dú)立線路開關(guān)自動停止加熱
?照明開關(guān)
?電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
?精確溫度設(shè)定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
?介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
?三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
?電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動機(jī)
?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）
MR Hei-Tec
?加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
?加熱盤直徑: 145 mm
MR Hei-Tec [ ]
?與 MR Hei-Tec 參數(shù)*
?正方形加熱盤
?加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成
?加熱盤尺寸 w x d （mm）: 132 x 132
加熱型磁力攪拌器MR Standard
適用于任何實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器
MR Hei-Standard
? 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
?加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
?介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C
?速度范圍: 100 - 1,400 rpm
?速度控制精度:±2 %
?加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
?加熱盤直徑: 145 mm
?通過兩個獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
?當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時，獨(dú)立線路開關(guān)自動停止加熱
?電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
?精確溫度設(shè)定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
?介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
?三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
?電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動機(jī)
?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）
磁力攪拌器MR Mix D/L/S
攪拌單功能
MR Hei-Mix D
?數(shù)字顯示，電子速度控制
?速度范圍: 100 - 1,400 rpm
?速度控制精度:±2 %
?加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
?加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 （V2A）
?加熱盤直徑: 145 mm
?延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤
?推薦用于細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室MR Hei-Mix L
?與MR Hei-Mix D參數(shù)*, 無數(shù)字顯示MR Hei-Mix S
?白色, 抗化學(xué)腐蝕 PVDF 加熱盤
?特別推薦用于滴定
?加熱盤直徑: 105 mm
?電子速度控制，無數(shù)字顯示
?大范圍速度設(shè)定: 0 - 2,200 rpm
?機(jī)身: 抗化學(xué)腐蝕材料聚氨酯
?zui小的空間需要:
126 ×80×140 mm （w × h × d）
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